新着情報
-
「高圧直流送電時代を支えるパワー半導体 (2)」をアップロード
高圧直流送電時代を支えるパワー半導体 (1) ~最大損失とスイッチング容量~ では、半導体チップの消費電力の面から、HVDC用途のMMCに使用するパワー半導体デバイスを考察しました。その議論の肝が半導… 続きを読む →
-
対称性から見た半導体エピタキシャル結晶成長 (4)をアップロード
本連載記事では、現在までに実用化された或いは実用化に向けて研究開発が進行中の半導体材料間の共通性や相違点を、特に結晶の対称性(平行移動や回転操作で結晶全体が重なるかどうか)、並びにエピタキシャル成長… 続きを読む →
-
対称性から見た半導体エピタキシャル結晶成長 (3)をアップロード
結晶欠陥の発生は結晶本来の対称性を崩し、半導体結晶ではそれを用いて作製される半導体デバイスの理想的特性を損なう事が知られている。本連載記事では、現在までに実用化された或いは実用化に向けて研究開発が進… 続きを読む →
-
対称性から見た半導体エピタキシャル結晶成長 (2)をアップロード
半導体結晶を人為的に作成しようとすると、結晶欠陥が発生して結晶の対称性が崩れる現象が頻繁に起こる。そしてそれらの半導体結晶をもとにして作製される半導体デバイスの理想的特性がしばしば損なわれている。本… 続きを読む →
-
対称性から見た半導体エピタキシャル結晶成長 (1)をアップロード
近年、半導体テクノロジーの重要性が再認識されてきたが、半導体テクノロジーのベースとして、素材としての半導体結晶作成技術は欠くことのできない基幹技術である。しかし実際の半導体結晶成長では結晶粒の境界で… 続きを読む →