アイシーソルーションズ, LLP

連載(8)では、基板中に存在していた基底面転位が、ドリフト層中へ少しだけ入り込んでしまった場合、どのような形状のショックレー型積層欠陥が成長するかを考察しました。連載(8)とこの連載(8)以降は、MOSFETのドリフト層中での積層欠陥がどのような形状で成長するかを考察します。興味がある方はぜひご覧ください。